Supercritical carbon dioxide may be utilized to remove resistant residues
such as those residues left when etching dielectrics in fluorine-based
plasma gases. The Supercritical carbon dioxide may include an ionic liquid
in one embodiment.
O dióxido de carbono supercritical pode ser utilizado para remover à esquerda os resíduos resistentes tais como aqueles resíduos ao gravar dielectrics em gáses fluorine-baseados do plasma. O dióxido de carbono supercritical pode incluir um líquido ionic em uma incorporação.
