Maskless laser beam patterning ablation of multilayered structures with continuous monitoring of ablation

   
   

A maskless patterning apparatus allows for laser beam ablation of one or more layers of material while not etching an underlying different material layer. A micromirror array produces the desired complex pattern on the workpiece and a continuous feature and end point detection system provides location and material parameter changes to accurately control the pattern position and depth of etching. End point detection includes monitoring energy reflected from a specially prepared replica of the material to be ablated, whose thickness and consistency match the active workpiece area. The process terminates when the proper amount of material is removed.

Maskless делая по образцу прибор позволяет для удаления лазерныйа луч one or more слоев материала пока вытравляющ основной по-разному материальный слой. Блок micromirror производит заданную сложную картину на workpiece и непрерывная система обнаружения характеристики и end point обеспечивает положение и параметр материала изменяет точно для того чтобы контролировать положение картины и глубину вытравливания. Обнаружение end point вклюает контролировать энергию отраженную от специально подготовленной реплики материала, котор нужно аблировать, последовательность которого толщина и сопрягает активно зону workpiece. Процесс прекращает когда извлекается правильное количество материала.

 
Web www.patentalert.com

< Apparatus and method for real time determination of materials' electrical properties

< Metallurgical furnace with scrap metal preheater and dispenser

> Organic electrolysis reactor for performing an electrolytic oxidation reaction and method for producing a chemical compound by using the same

> Computer system

~ 00102