Substrate processing apparatus

   
   

A developer is supplied onto a substrate and thereafter a rinse discharge nozzle is moved toward an operating direction. The rinse discharge nozzle is so moved on the substrate as to continuously supply pure water onto the substrate from a slit discharge port of the rinse discharge nozzle while sucking and recovering the pure water from the surface of the substrate through a slit suction port, and a series of development is performed in a stationary state of the substrate.

Een ontwikkelaar wordt geleverd op een substraat en daarna is een pijp van de spoelingslossing op weg geweest naar een werkende richting. De pijp van de spoelingslossing wordt zo bewogen op het substraat om zuiver water op het substraat van een haven van de spleetlossing van de pijp van de spoelingslossing onophoudelijk te leveren terwijl het zuigen van en het terugkrijgen van het zuivere water van de oppervlakte van het substraat door een haven van de spleetzuiging, en een reeks van ontwikkeling in een stationaire staat van het substraat worden uitgevoerd.

 
Web www.patentalert.com

< Auxiliary module use relaying component and auxiliary module

< Rotation type camera apparatus

> Photographic article

> Scaling device for photographic images

~ 00102