Multi-process system with pivoting process chamber

   
   

A system for processing a workpiece includes an inner chamber pivotably supported within an outer chamber. The inner chamber has an opening to allow liquid to drain out. A motor pivots the inner chamber to bring the opening at or below the level of liquid in the inner chamber. As the inner chamber turns, liquid drains out. Workpieces within the inner chamber are supported on a holder or a rotor, which may be fixed or rotating. Multi processes may be performed within the inner chamber, reducing the need to move the workpieces between various apparatus and reducing risk of contamination.

Ein System für die Verarbeitung eines Werkstückes schließt einen inneren Raum ein, der pivotably innerhalb eines äußeren Raumes gestützt wird. Der innere Raum hat eine Öffnung, zum der Flüssigkeit heraus auslaufen zu lassen. Ein Motor schwenkt den inneren Raum, um die Öffnung auf oder unterhalb dem Niveau der Flüssigkeit im inneren Raum zu holen. Während der innere Raum sich dreht, läuft Flüssigkeit heraus aus. Werkstücke innerhalb des inneren Raumes werden auf einen Halter oder einen Rotor gestützt, die örtlich festgelegt oder Drehen sein können. Multi können Prozesse innerhalb des inneren Raumes durchgeführt werden, die Notwendigkeit verringern, die Werkstücke zwischen verschiedene Apparate zu verschieben und Gefahr der Verschmutzung verringern.

 
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< Electroplating system having auxiliary electrode exterior to main reactor chamber for contact cleaning operations

< Wafer container cleaning system

> Reactor for processing a semiconductor wafer

> Integrated tools with transfer devices for handling microelectronic workpieces

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