Excimer laser oscillation apparatus and method, excimer laser exposure apparatus, and laser tube

   
   

In an excimer laser oscillation apparatus including a laser chamber (20) constituted by a laser tube (2) for storing a laser gas containing a gas mixture of at least one inert gas selected from the group consisting of Kr, Ar, and Ne, He and F.sub.2 gas, and an optical resonator consisting of a pair of reflection mirrors (5, 6) arranged to sandwich the laser chamber (20) therebetween, the inner surface of the laser chamber (20) for storing the laser gas has a reflection-free surface with respect to light of a desired wavelength of 248 nm, 193 nm, or 157 nm, and the uppermost surface of the inner surface consists of a fluoride, and a means (waveguide 1) for introducing a microwave for exciting the laser gas in the laser chamber (20) is prepared. With this arrangement, an excimer laser oscillation apparatus, an oscillation method, and an exposure apparatus can be provided, which can reduce the load on the lens material and its surface, can simplify the mirror or laser scanning control system, and are satisfactorily used in mass production since the service life of an excimer laser can be sufficiently prolonged.

In einem excimer Laser Pendelbewegung Apparat einschließlich einen Laser Raum setzten (20) durch einen Laser Schlauch (2) für die Speicherung eines Laser Gases fest, das eine Gasmischung von mindestens einem Edelgas enthält, das von der Gruppe vorgewählt wurde, die aus Kr, Ar und Ne, er und Gas F.sub.2 und ein optischer Resonator besteht aus einem Paar Reflexion Spiegeln besteht (5, 6) geordnet zum Sandwich, das der Laser Raum (20) therebetween, hat die innere Oberfläche des Laser Raumes (20) für die Speicherung des Laser Gases eine reflexionsfreie Oberfläche in Bezug auf Licht einer gewünschten Wellenlänge von 248 nm, von 193 nm oder von 157 nm, und die oberste Oberfläche der inneren Oberfläche besteht von einem Fluorid und Mittel (Wellenleiter 1) für das Vorstellen einer Mikrowelle für das Aufregen des Laser Gases im Laser Raum (20) wird vorbereitet. Mit dieser Anordnung können ein excimer Laser Pendelbewegung Apparat, eine Pendelbewegung Methode und ein Belichtung Apparat versehen werden, der die Last auf dem Objektivmaterial und seiner Oberfläche verringern kann, das Spiegel- oder Laserabtastungsteuersystem vereinfachen kann, und werden zufriedenstellend in der Massenproduktion seit der Nutzungsdauer eines excimer Lasers können genug ausgedehnt werden verwendet.

 
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