Integrated surface metrology

   
   

This invention is an instrument adaptable for integration into a process tool the combines a number of instruments for surface characterization. As an integrated process monitor, the invention is capable of monitoring surface dishing, surface erosion and thickness of residue layers on work-pieces with little time delay. The invention is adaptable to making measurements while a wafer or work-piece is either wet or dry. A preferred embodiment includes an integrated optical profiler adapted to surface profiling in the presence of optical interference arising from retro-reflections from underlying optical non-uniformities. Alternate embodiments include an integrated stylus profiler with vibration isolation.

Esta invención es un instrumento adaptable para la integración en una herramienta de proceso las cosechadoras un número de instrumentos para la caracterización superficial. Pues un monitor de proceso integrado, la invención es capaz de supervisar la superficie que sirve, la erosión y el grueso superficiales de las capas del residuo en los objetos con poco retraso. La invención es adaptable a hacer medidas mientras que una oblea o un objeto es mojado o seco. Una encarnación preferida incluye un profiler óptico integrado adaptado a la superficie que perfila en la presencia de interferencia óptica que se presenta de retro-reflexiones de no-uniformidades ópticas subyacentes. Las encarnaciones alternas incluyen un profiler integrado de la aguja con el aislamiento de vibración.

 
Web www.patentalert.com

< Method and apparatus to determine fly height of a recording head

< Method and apparatus for observing and inspecting defects

> Measurement of waveplate retardation using a photoelastic modulator

> Small spot ellipsometer

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