The present invention provides a control system for a modular high
repetition rate two discharge chamber ultraviolet gas discharge laser. In
preferred embodiments, the laser is a production line machine with a
master oscillator producing a very narrow band seed beam which is
amplified in the second discharge chamber. Feedback timing control
techniques are provided for controlling the relative timing of the
discharges in the two chambers with an accuracy in the range of about 2 to
5 billionths of a second even in burst mode operation. This MOPA system is
capable of output pulse energies approximately double the comparable
single chamber laser system with greatly improved beam quality.
La présente invention fournit un système de commande pour un laser ultra-violet de décharge de gaz de répétition du taux deux de chambre élevée modulaire de décharge. Dans des modes de réalisation préférés, le laser est une chaîne de production machine avec un oscillateur principal produisant un faisceau très à bande étroite de graine qui est amplifié dans la deuxième chambre de décharge. Des techniques de commande de synchronisation de rétroaction sont données pour commander la synchronisation relative des décharges dans les deux chambres en milliardièmes de l'exactitude environ 2 à 5 d'un deuxième même dans l'opération de mode continu. Ce système de MOPA est capable des énergies d'impulsion de rendement le le système simple comparable approximativement double de laser de chambre avec la qualité considérablement améliorée de faisceau.
