Detection and handling of semiconductor wafers and wafer-like objects

   
   

An end-effector includes multiple vortex chucks for supporting a wafer. Vortex chucks are located along the periphery of the end-effector to help prevent a flexible wafer from curling. The end-effector has limiters to restrict the lateral movement of a supported wafer. In one example, the end-effector has a detector for detecting the presence of a wafer. The detector is mounted at a shallow angle to allow the end-effector to be positioned close to a wafer to be picked-up, thereby allowing detection of deformed wafers contained in a wafer cassette. The shallow angle of the detector also minimizes the thickness of the end-effector. Also disclosed is a wafer station with features similar to that of the end-effector.

End-effector περιλαμβάνει τα πολλαπλάσια τσοκ δινών για την υποστήριξη μιας γκοφρέτας. Τα τσοκ δινών βρίσκονται κατά μήκος της περιφέρειας end-effector για να βοηθήσουν να αποτρέψουν μια εύκαμπτη γκοφρέτα από το κατσάρωμα. End-effector έχει τους περιοριστές για να περιορίσει την πλευρική μετακίνηση μιας υποστηριγμένης γκοφρέτας. Σε ένα παράδειγμα, end-effector έχει έναν ανιχνευτή για την ανίχνευση της παρουσίας μιας γκοφρέτας. Ο ανιχνευτής τοποθετείται σε μια ρηχή γωνία για να επιτρέψει end-effector για να τοποθετηθεί κοντά σε μια γκοφρέτα για να είναι επι:λέγω-επάνω, με αυτόν τον τρόπο επιτρέποντας την ανίχνευση των παραμορφωμένων γκοφρετών που περιλαμβάνονται σε μια κασέτα γκοφρετών. Η ρηχή γωνία του ανιχνευτή ελαχιστοποιεί επίσης το πάχος end-effector. Επίσης αποκαλύπτεται ένας σταθμός γκοφρετών με τα χαρακτηριστικά γνωρίσματα παρόμοια με αυτόν end-effector.

 
Web www.patentalert.com

< Gait pattern generating device for legged mobile robot

< System and methodology and adaptive, linear model predictive control based on rigorous, nonlinear process model

> Robotic apparatus and wireless communication system

> Wearable muscular-force supplementing device

~ 00100