According to aspect of the invention, a plating system is provided which includes a tank for containing a plating solution, a shaft extending into the tank, and a substrate holder mounted to the shaft. The shaft and the tank are rotatable relative to one another. The substrate holder is configured to support a substrate in position so that at least a first face of the substrate is exposed to the plating solution in the tank.

Σύμφωνα με την πτυχή της εφεύρεσης, ένα σύστημα επένδυσης παρέχεται που περιλαμβάνει μια δεξαμενή για τον περιορισμό μιας λύσης επένδυσης, ενός άξονα εκτεινόμενος στη δεξαμενή, και ενός κατόχου υποστρωμάτων που τοποθετείται στον άξονα. Ο άξονας και η δεξαμενή είναι περιστρέψιμοι σχετικά με το ένα άλλη. Ο κάτοχος υποστρωμάτων διαμορφώνεται για να υποστηρίξει ένα υπόστρωμα στη θέση έτσι ώστε τουλάχιστον ένα πρώτο πρόσωπο του υποστρώματος εκτίθεται στη λύση επένδυσης στη δεξαμενή.