An in-situ (result-directed/predictive) MR stripe height calibration method capable of operating on the fly during lapping operation. The method involves utilization of an interval sampling technique, which provides a high number of data points. The data provided are filtered and averaged at each kerf location to provide a much higher calibration accuracy than previously available. The primary advantage is to create an accurate relationship between MR element resistance and its stripe height while the MR element is being lapped. The method thus provides the ability to target either resistance or stripe height or a combination of both during the lapping process. Finally, the system is completely self-contained and does not required wafer data.

(result-directed/predictive) M. in-situ méthode de calibrage de taille de raie capable de l'opération en marche pendant enrouler l'opération. La méthode comporte l'utilisation d'une technique d'échantillonnage d'intervalle, qui fournit un nombre élevé de points de repères. Les données fournies sont filtrées et ramenées à une moyenne à chaque endroit de kerf pour fournir une exactitude beaucoup plus élevée de calibrage que précédemment disponible. L'avantage primaire doit créer un rapport précis entre M. résistance d'élément et sa taille de raie tandis que M. élément est enroulé. La méthode fournit ainsi la capacité de viser la résistance ou la taille de raie ou une combinaison de tous les deux pendant le processus enroulant. En conclusion, le système est complètement art de l'auto-portrait-contained et pas eus besoin gaufrette.