In a sputtering target comprising at least indium oxide and zinc oxide, the atomic ratio represented by In/(In+Zn) is set to a value within the range of 0.75 to 0.97, a hexagonal layered compound represented by In.sub.2 O.sub.3 (ZnO).sub.m wherein m is an integer of 2 to 20 is contained, and the crystal grain size of the hexagonal layered compound is set to a value of 5 .mu.m or less.

In einem Spritzenziel, das mindestens Indiumoxid und Zinkoxid enthält, wird das Atomverhältnis, das durch In/(In+Zn) dargestellt wird, zu einem Wert innerhalb des Bereiches 0.75 zu 0.97, ein sechseckiges überlagertes Mittel eingestellt, das von In.sub.2 O.sub.3 dargestellt wird (ZnO).sub.m, worin m eine Ganzzahl von 2 bis 20 ist, wird und die Kristallkorngröße des sechseckigen überlagerten Mittels wird eingestellt auf einen Wert von mu.m 5 oder weniger enthalten.