A method of, and apparatus for, mechanically masking a workpiece to form exposure exclusion regions is disclosed. The apparatus includes a mask that is arranged atop the photosensitive surface of the workpiece. The mask is opaque to the wavelength of radiation that activates the photosensitive workpiece surface. The mask is placed onto the workpiece prior to lithographic exposure of the workpiece so that the photosensitive material (e.g., negative acting photoresist) can be removed from select regions of the workpiece to provide, for example, electrical contact directly to the workpiece upper surface.

Un metodo di e l'apparecchio per, mascherante meccanicamente un pezzo in lavorazione per formare le regioni di esclusione di esposizione è rilevato. L'apparecchio include una mascherina che è organizzata in cima alla superficie fotosensibile del pezzo in lavorazione. La mascherina è opaca alla lunghezza d'onda di radiazione che attiva la superficie fotosensibile del pezzo in lavorazione. La mascherina è disposta sul pezzo in lavorazione prima di esposizione litografica del pezzo in lavorazione in moda da potere rimuovere il materiale fotosensibile (per esempio, photoresist sostituto negativo) dalle regioni prescelte del pezzo in lavorazione per fornire, per esempio, il contatto elettrico direttamente alla superficie superiore del pezzo in lavorazione.