Workpieces requiring low levels of contamination, such as semiconductor
wafers, are loaded into a rotor within a process chamber. The process
chamber has a horizontal drain opening in its cylindrical wall. The
chamber is closed via a door. A process or rinsing liquid is introduced
into the chamber. The liquid rises to a level so that the workpieces are
immersed in the liquid. The chamber slowly pivots or rotates to move the
drain opening down to the level of the liquid. The liquid drains out
through the drain opening. The drain opening is kept near the surface of
the liquid to drain off liquid at a uniform rate. An organic solvent vapor
is introduced above the liquid to help prevent droplets of liquid from
remaining on the workpieces as the liquid drains off. The rotor spins the
workpieces to help to remove any remaining droplets by centrifugal force.
Workpieces требуя низких уровней загрязнения, such as вафли полупроводника, нагружены в ротор внутри отростчатая камера. Отростчатая камера имеет горизонтальное отверстие стока в своей цилиндрической стене. Камера закрыта через дверь. Процесс или жидкость полоскать введены в камеру. Жидкость поднимает к уровню так, что workpieces будут погружены в жидкости. Камера медленно делает поворот или вращает для того чтобы двинуть вплоть отверстия стока до уровень жидкости. Жидкость стекает вне через отверстие стока. Отверстие стока сдержано почти поверхность жидкости для того чтобы drain off жидкость на равномерном тарифе. Пар органического растворителя введен над жидкостью для того чтобы помочь предотвратить капельки жидкости от остающегося на workpieces по мере того как жидкость стекает. Ротор закручивает workpieces для того чтобы помочь извлечь все остальные капельки центробежным усилием.