A technique in which a boundary region is added to the outside parallel edge of phase zero (0) pattern defining polygons. This technique can reduce the need for optical proximity correction (OPC) and improve the manufacturability and patterning process window for integrated circuits. The technique can also set the width of both phase 0 and phase 180 polygons to specific sizes, making OPC easier to assign.

Метод в зона границы добавлена к внешнему параллельному краю картины участка нул (0) определяя полигоны. Этот метод может уменьшить потребность для оптически коррекции близости (OPC) и улучшить manufacturability и делая по образцу отростчатое окно для интегрированных цепей. Метод может также установить ширину и полигонов участка 0 и участка 180 к специфически размерам, делая OPC более легким задать.