A display device includes pixels disposed in a matrix on a transparent base plate. Each pixel includes an opening region, in which an electro-optic element for emitting light through the base plate is formed, and a non-opening region, in which a thin film transistor for driving the electro-optic element is formed. The non-opening region has a first film structure including the thin film transistor. The opening region has a second film structure extending from the first film structure and existing between the electro-optic element and the base plate. The second film structure is different from the first film structure so as to adjust the light passing through the opening region.

Un dispositivo de exhibición incluye los pixeles dispuestos en una matriz en un embase transparente. Cada pixel incluye una región de la abertura, en la cual un elemento electróptico para emitir la luz a través del embase se forma, y una región de la no-abertura, en la cual un transistor de la película fina para conducir el elemento electróptico se forma. La región de la no-abertura tiene una primera estructura de la película incluyendo el transistor de la película fina. La región de la abertura tiene una segunda estructura de la película el extender de la primera estructura de la película y el existir entre el elemento electróptico y el embase. La segunda estructura de la película es diferente de la primera estructura de la película para ajustar la luz que pasa con la región de la abertura.