A method for etching a metal layer on a scale of nano meters, includes preparing a substrate on which a metal layer is formed, positioning a micro tip over the metal layer, generating an electron beam from the micro tip by applying a predetermined voltage between the metal layer and the micro tip, and etching the surface of the metal layer into a predetermined pattern with the electron beam. Accordingly, it is possible to form an etched pattern by applying a negative bias to a micro tip without applying a strong mechanical force to the micro tip, and heating/melting the metal layer with the use of an electron beam emitted from the micro tip which is negative-biased.

Un método para grabar al agua fuerte una capa del metal en una escala de los metros del nano, incluye la preparación de un substrato en el cual se forme una capa del metal, colocando una extremidad micro sobre la capa del metal, generando un haz electrónico de la extremidad micro aplicando un voltaje predeterminado entre la capa del metal y la extremidad micro, y grabando al agua fuerte la superficie de la capa del metal en un patrón predeterminado con el haz electrónico. Por consiguiente, es posible formar un patrón grabado al agua fuerte aplicando un diagonal negativo a una extremidad micro sin la aplicación de una fuerza mecánica fuerte a la extremidad micro, y heating/melting que la capa del metal con el uso de un haz electrónico emitió de la extremidad micro que es negativo-en polarizacio'n negativa.