A method for determining from measured reflection data on a plurality of trace positions, a plurality of subsurface parameters. The method includes the steps of: preprocessing the measured reflection data into a plurality of partial or full stacks; specifying one or more initial subsurface parameters defining an initial subsurface model; specifying a wavelet or wavelet field for each of the partial or full stacks of the measured reflection data; calculating synthetic reflection data based on the specified wavelets and the initial subsurface parameters; optimizing an objective function, including the weighted difference between measured reflection data and synthetic reflection data for a plurality of trace positions simultaneously; and outputting the optimized subsurface parameters. A device for implementing this method is also included.

Um método para determinar dos dados medidos da reflexão em um plurality de posições do traço, um plurality de parâmetros subsuperficiais. O método inclui as etapas de: preprocessing os dados medidos da reflexão em um plurality de pilhas parciais ou cheias; especificando um ou mais parâmetro subsuperficial inicial que define um modelo subsuperficial inicial; especificando um wavelet ou um campo do wavelet para cada uma das pilhas parciais ou cheias dos dados medidos da reflexão; dados sintéticos calculadores da reflexão baseados nos wavelets especificados e nos parâmetros subsuperficiais iniciais; optimizing uma função objetiva, including a diferença tornada mais pesada entre dados medidos da reflexão e dados sintéticos da reflexão para um plurality de posições do traço simultaneamente; e outputting os parâmetros subsuperficiais optimized. Um dispositivo para executar este método é incluído também.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Method for determining decay characteristics of multi-component downhole decay data

> Precision alignment feature using a rod with controlled diameter in a silicon V-groove array

> (none)

~ 00095