A reactor for processing semiconductor wafers and the like is provided. The reactor employs one or more rotating components to more evenly distribute temperature or gases within the chamber. In one embodiment, the reactor is provided with rotating reflectors, which reflect the heat generated from radiant heat lamps onto a stationary wafer in a reaction chamber. The rotation of the reflectors provides for a more uniform temperature distribution on the wafer. In another embodiment, the reaction chamber itself is rotated while the wafer is kept stationary. In another embodiment, a rotating showerhead is provided above the wafer through which gases flow to deposit onto the wafer in a uniform manner.

Um reator para processar wafers de semicondutor e o gosto é fornecido. O reator emprega aquele ou mais componentes girando a distribuem mais uniformente a temperatura ou os gáses dentro da câmara. Em uma incorporação, o reator é fornecido com os refletores girando, que refletem o calor gerado das lâmpadas do calor radiante em um wafer estacionário em uma câmara da reação. A rotação dos refletores fornece para uma distribuição mais uniforme da temperatura no wafer. Em uma outra incorporação, a câmara própria da reação é girada quando o wafer for mantido estacionário. Em uma outra incorporação, um showerhead girando é fornecido acima do wafer através de que os gáses fluem ao depósito no wafer em uma maneira uniforme.