The present application discloses a method of manufacturing a spacer having an excellent characteristic, and more particularly a method of efficiently manufacturing the spacer. Specifically, in a method of manufacturing a spacer used in an electron beam generating device, there is provided a step of providing a material for forming a film on a film formation surface of a spacer base substance in a state where the spacer base substance is nipped, wherein the material providing step is achieved in a state where the film formation surface is not projected from an end portion of a nipping member for nipping the spacer base substance.

Die anwesende Anwendung gibt eine Methode der Produktion einer Distanzscheibe frei, die eine ausgezeichnete Eigenschaft hat, und besonders eine Methode von die Distanzscheibe leistungsfähig herstellen. Spezifisch in einer Methode der Produktion einer Distanzscheibe, die in einem Elektronenstrahl erzeugt Vorrichtung benutzt wird, wird ein Schritt des Zur Verfügung stellens eines Materials für die Formung eines Filmes auf einer Filmanordnung Oberfläche einer Distanzscheibe Unterseite Substanz in einem Zustand zur Verfügung gestellt, in dem die Distanzscheibe Unterseite Substanz geklemmt wird, worin der materielle zur Verfügung stellende Schritt in einem Zustand erzielt wird, in dem die Filmanordnung Oberfläche nicht von einem Ende Teil eines klemmenden Mitgliedes für das Klemmen der Distanzscheibe Unterseite Substanz projiziert wird.