A system and method are used to protect a mask from being contaminated by airborne particles. They include coupling a reticle and a cover to protect the reticle. The cover includes a frame and a movable panel that moves to allow direct access of light to the reticle during an exposure process. The reticle and cover are moved to a stage using a robot gripper. The reticle and cover may be coupled to a baseplate before being moved. Corresponding alignment devices are coupled to the frame and the panel, the gripper and the panel, and the baseplate and the panel. The stage and the frame can have corresponding attachment devices. A pre-alignment device can be used to align the reticle before transporting it to a stage. The pre-alignment device and the frame can have corresponding alignment devices that can be used to perform the pre-alignment. Predetermined areas of the reticle can be hardened or shaped, such that less particles are produced during contact with the reticle.

Un sistema y un método se utilizan para proteger una máscara contra la contaminación por las partículas aerotransportadas. Incluyen juntar un retículo y una cubierta para proteger el retículo. La cubierta incluye un marco y un panel movible que se mueva para permitir la acceso directa de la luz al retículo durante un proceso de la exposición. El retículo y la cubierta se mueven a una etapa usando un agarrador de la robusteza. El retículo y la cubierta se pueden juntar a una placa de base antes de ser movida. Los dispositivos correspondientes de la alineación se juntan al marco y el panel, el agarrador y el panel, y la placa de base y el panel. La etapa y el marco pueden tener dispositivos correspondientes del accesorio. Un dispositivo de la pre-alineacio'n se puede utilizar para alinear el retículo antes de transportarlo a una etapa. El dispositivo de la pre-alineacio'n y el marco pueden tener dispositivos correspondientes de la alineación que se puedan utilizar para realizar la pre-alineacio'n. Las áreas predeterminadas del retículo se pueden endurecer o formar, tales que menos partículas están producidas durante contacto con el retículo.