The invention relates to a method of manufacturing layer-like structures in which a material layer having hollow cavities, preferably a porous material layer, is produced on or out of a substrate consisting, for example, of monocrystalline p-type or n-type Si and in which the layer-like structure, or a part of it, is subsequently provided on the cavity exhibiting or porous material layer. The layer-like structure, or a part of it, is subsequently separated from the substrate using the layer having the hollow cavities, or porous layer, as a point of desired separation, for example through the production of a mechanical strain within or at a boundary surface of the cavity exhibiting or porous layer. The method is characterized in that the surface of the substrate is structured prior to the production of the porous layer, or in that the surface of the porous layer is structured.

L'invenzione riguarda un metodo di produzione strato-come le strutture in su cui uno strato materiale che ha cavità vuote, preferibilmente uno strato materiale poroso, è prodotto o da un substrato che è costituito, per esempio, dal p-tipo o dal n-tipo monocristallino silicone e quale strato-come la struttura, o in una parte di esso, successivamente è fornito esibire della cavità o sullo strato materiale poroso. Strato-come la struttura, o una parte di esso, successivamente è separato dal substrato usando lo strato che ha le cavità vuote, o dallo strato poroso, come punto della separazione voluta, per esempio con la produzione di uno sforzo meccanico all'interno di o ad una superficie di contorno esibire della cavità o dello strato poroso. Il metodo è caratterizzato in quanto la superficie del substrato è strutturata prima della produzione dello strato poroso, o in quanto la superficie dello strato poroso è strutturata.