A method is provided to deposit and pattern a sacrificial polymer, and form metal layers. A double hard mask is used to pattern and etch the sacrificial polymer. The double hard mask may be formed at temperatures below 400.degree. C. The sacrificial polymer is capable of being decomposed to become air gaps during annealing.

Un metodo è fornito al deposito e modella un polimero sacrificial ed il metallo della forma fa uno strato di. Una doppia mascherina dura è usata per modellare ed incidere il polimero all'acquaforte sacrificial. La doppia mascherina dura può essere formata alle temperature sotto 400.degree. C. Il polimero sacrificial è capace della decomposizione da transformarsi in in lacune di aria durante la ricottura.