A method and apparatus for performing atomic layer deposition in which a surface of a substrate is pretreated to make the surface of the substrate reactive for performing atomic layer deposition.

Μια μέθοδος και μια συσκευή για την ατομική απόθεση στρώματος στην οποία μια επιφάνεια ενός υποστρώματος επεξεργάζεται εκ των προτέρων για να καταστήσει την επιφάνεια του υποστρώματος αντιδραστική για την εκτέλεση της ατομικής απόθεσης στρώματος.