The present invention discloses a polymer having a repeated unit of the formula (II), ##STR1## wherein R.sup.1 is H, haloalkyl group or C.sub.1 -C.sub.4 alkyl group; R.sup.2 is hydroxyl group, C.sub.1 -C.sub.8 alkoxy group or C.sub.1 -C.sub.8 thioalkyl group; G is (CH.sub.2).sub.n, O or S, wherein n is 0, 1, 2, 3 or 4; Rc is a lactone group; and m is 1, 2 or 3. The polymer of the present invention can be used to form the chemical amplified photoresist composition, which can then be applied to general lithography processes, and particularly to the lithography of ArF, KrF or the like light source, and exhibit excellent resolution, figures and photosensitivity.

La presente invenzione rileva un polimero che ha un'unità ripetuta della formula (ii), ## del ## STR1 in cui R.sup.1 è H, gruppo di haloalkyl o C.sub.1 - il gruppo alchile C.sub.4; R.sup.2 è gruppo dell'idrossile, C.sub.1 - gruppo alkoxy C.sub.8 o C.sub.1 - gruppo di thioalkyl C.sub.8; Il G è (CH.sub.2).sub.n, O o S, in cui la n è 0, 1, 2, 3 o 4; Rc è un gruppo del lattone; e la m. è 1, 2 o 3. Il polimero di presente invenzione può essere usato per formare la composizione amplificata chimica nel photoresist, che può allora essere applicata ai processi generali di litografia e specialmente alla litografia di ArF, di KrF e simili della fonte di luce ed esibisce la risoluzione, le figure ed il photosensitivity eccellenti.