A method and apparatus are provided for the analysis of buried layers of an analyte material by: a) removing surface layers of said analyte material with an atomic force microscopy (AFM) stylus to expose a buried layer; and b) analyzing a buried layer, preferably for molecular structure. An apparatus is provided which encompasses both AFM and one or more additional surface analytical apparati within a controlled atmosphere under coordinated computer control.

Un metodo e un apparecchio sono forniti per l'analisi degli strati sepolti di un materiale del analyte vicino: a) strati di superficie di rimozione del materiale detto del analyte con uno stilo atomico di microscopia della forza (AFM) per esporre uno strato sepolto; e b) analizzando uno strato sepolto, preferibilmente per la struttura molecolare. Un apparecchio è fornito che comprende sia il AFM che uno o più apparati analitico di superficie supplementare all'interno di un atmosfera controllato sotto controllo di calcolatore coordinato.