The present invention relates generally to UV (ultraviolet) photosensitive bulk glass, and particularly to batch meltable alkali boro-alumino-silicate glasses. The photosensitive bulk glass of the invention exhibits photosensitivity to UV wavelengths below 250 nm. The photosensitivity of the alkali boro-alumino-silicate bulk glass to UV wavelengths below 250 nm provide for the making of refractive index patterns in the glass. With a radiation source below 250 nm, such as a laser, refractive index patterns are formed in the glass. The inventive photosensitive optical refractive index pattern forming bulk glass allows for the formation of patterns in glass and devices which utilize such patterned glass.

La presente invenzione si riferisce generalmente a vetro all'ingrosso fotosensibile (ultravioletto) UV e specialmente ai vetri fusibili del boro-alumino-silicato dell'alcali in lotti. Il vetro all'ingrosso fotosensibile dell'invenzione esibisce il photosensitivity alle lunghezze d'onda UV inferiore a 250 nm. Il photosensitivity del vetro alla rinfusa del boro-alumino-silicato dell'alcali alle lunghezze d'onda UV inferiore a 250 nm prevede fare dei modelli di indice di rifrazione nel vetro. Con una fonte di radiazione inferiore a 250 nm, quale un laser, i modelli di indice di rifrazione sono formati nel vetro. Il modello ottico fotosensibile inventivo di indice di rifrazione che forma il vetro all'ingrosso tiene conto la formazione dei modelli in vetro e dispositivi che utilizzano tale vetro modellato.