A method and an apparatus are described for the optical examination of structured surfaces of objects, especially of wafers and/or masks. The optical apparatus has an observation beam path (6) whose central axis (42) is directed vertically against the surface of the object (16), an illumination beam (2) whose central ray (40) falls vertically on the surface of the object, and an illumination beam (3) whose central ray (41) falls obliquely onto the surface of the object (16). In the observation beam path (6) the image of the surface of the object (6) is observed and/or detected. In the observation beam path (6) a filter device (38) and/or detector device (18) is disposed. The optical system has an illumination device (39) for the simultaneous production of a dark field illumination, a device for the coding (11) of the illumination beams (2, 3) being associated with the bright field (2) and/or the dark field illumination beam (3).

Eine Methode und ein Apparat werden für die optische Prüfung der strukturierten Oberflächen der Gegenstände, besonders von Oblaten und/oder von Schablonen beschrieben. Der optische Apparat hat einen Beobachtung Strahlengang (6) dessen zentrale Mittellinie (42) vertikal gegen die Oberfläche des Gegenstandes (16), des Ablichtung Lichtstrahls (2) dessen zentralen Strahl (40) vertikal auf die Oberfläche des Gegenstandes fällt und des Ablichtung Lichtstrahls (3) verwiesen wird, dessen zentralen Strahl (41) schief auf die Oberfläche des Gegenstandes (16) fällt. Im Beobachtung Strahlengang (6) wird das Bild der Oberfläche des Gegenstandes (6) beobachtet und/oder ermittelt. Im Beobachtung Strahlengang (6) wird eine Filtervorrichtung (38) und/oder Detektorvorrichtung (18) abgeschaffen. Das optische System läßt eine Ablichtung Vorrichtung (39) für die simultane Produktion einer Dunkelheit Ablichtung auffangen, strahlt eine Vorrichtung für die Kodierung (11) der Ablichtung (2, 3), verbinden mit dem hellen, fangen (2) auf und/oder fangen die Dunkelheit Ablichtung Lichtstrahl (3) auf.