The present invention relates to a semiconductor device using a copolymer-containing photoresist, and a process for manufacturing the same. As a norbornene derivative (monomer) having a hydrophilic group is synthesized and introduced to the backbone chain of a polymer, the polymer according to the present invention has excellent etching resistance and heat resistance, which are the characteristic points of alicyclic olefin structure, and provide excellent resolution due to prominent enhancement of adhesiveness resulted from introducing a hydrophilic group (--OH).

La presente invenzione riguarda un dispositivo a semiconduttore usando un photoresist copolimero-contenente e un processo per la produzione dello stesso. Mentre un derivato del norbornene (monomero) che ha un gruppo idrofilo è sintetizzato ed introdotto alla catena della base di un polimero, il polimero secondo la presente invenzione ha la resistenza eccellente acquaforte e resistenza termica, che sono i punti caratteristici della struttura alicilica dell'olefina e fornisce la risoluzione eccellente dovuto l'aumento prominente di adesività è derivato dall'introdurre un gruppo idrofilo (- - l'OH).