A photonic crystal is formed on a semiconductor substrate using a semiconductor-based fabrication process by forming a number of alternating layers of material that have different dielectric constants. The layers of material are then etched to form a number of spaced-apart stacks of alternating layers of material. An interstack material is then formed between the stacks.

Ένα φωτονιακό κρύσταλλο διαμορφώνεται σε ένα υπόστρωμα ημιαγωγών χρησιμοποιώντας μια ημιαγωγός-βασισμένη στην διαδικασία επεξεργασίας με τη διαμόρφωση διάφορων εναλλασσόμενων στρωμάτων του υλικού που έχουν τις διαφορετικές διηλεκτρικές σταθερές. Τα στρώματα του υλικού χαράζονται έπειτα για να διαμορφώσουν διάφορους χωρίζω κατά διαστήματα-χώρια σωρούς των εναλλασσόμενων στρωμάτων του υλικού. Ένα υλικό interstack διαμορφώνεται έπειτα μεταξύ των σωρών.