An end-effector includes multiple vortex chucks for supporting a wafer. Vortex chucks are located along the periphery of the end-effector to help prevent a flexible wafer from curling. The end-effector has limiters to restrict the lateral movement of a supported wafer. In one example, the end-effector has a detector for detecting the presence of a wafer. The detector is mounted at a shallow angle to allow the end-effector to be positioned close to a wafer to be picked-up, thereby allowing detection of deformed wafers contained in a wafer cassette. The shallow angle of the detector also minimizes the thickness of the end-effector. Also disclosed is a wafer station with features similar to that of the end-effector.

Un end-effector incluye las tiradas múltiples del vórtice para apoyar una oblea. Las tiradas del vórtice están situadas a lo largo de la periferia del end-effector para ayudar a evitar que una oblea flexible se encrespe. El end-effector tiene limitadores para restringir el movimiento lateral de una oblea apoyada. En un ejemplo, el end-effector tiene un detector para detectar la presencia de una oblea. El detector se monta a un ángulo bajo para permitir que el end-effector sea colocado cerca de una oblea que se tomará, de tal modo permitiendo la detección de las obleas deformidas contenidas en un cassette de la oblea. El ángulo bajo del detector también reduce al mínimo el grueso del end-effector. También se divulga una estación de la oblea con las características similares a la del end-effector.