A method for transferring semiconductor wafers can suppress the generation of native oxides or watermarks, or the like, in cleaning the semiconductor wafers. In the semiconductor wafer transfer method of the preferred embodiment, first and second process chambers, and a dry unit are vertically arranged in a housing. The preferred method includes transferring the wafer between these chambers and the dry unit by a first non-contact hold type of a transfer robot, transferring the wafer between the housing and a wafer cassette by a second non-contact hold type of a transfer robot, and feeding nitrogen gas into the housing from gas-feeding inlets.

Метод для переносить вафли полупроводника может подавить поколение родних окисей или watermarks, или подобие, в очищать вафли полупроводника. В методе перехода вафли полупроводника предпочитаемого воплощения, сперва и вторых камер процесса, и сухого блока вертикальн аранжируйте в снабжении жилищем. Предпочитаемый метод вклюает переносить вафлю между этими камерами и сухим блоком первым внеконтактным типом владением робота перехода, перенося вафлю между снабжением жилищем и кассетой вафли вторым внеконтактным типом владением робота перехода, и подавая газ азота в снабжение жилищем от газ-podava4 входов.