A photosensitive polymer is provided which includes: (a)
perfluoro-2,2-dimethy-1,3-dioxol derivatives having the following
repeating unit:
##STR1##
and (b) vinyl derivatives having the following repeating unit:
##STR2##
wherein R.sub.1 is H, Cl, or F; each of R.sub.2 and R.sub.3 is H or F;
R.sub.4 is H, F, CF.sub.3, OCF.sub.3, OCF.sub.2 CF.sub.3, OCF.sub.2
CF.sub.2 CF.sub.3, CH.sub.2 C(CF.sub.3).sub.2 OH, fluorinated alkyloxy
group having an acid-labile group, n-perfluoroalkyl group having 1 to 8
carbon atoms, OR.sub.F, wherein R.sub.F is n-perfluoroalkyl group having 1
to 3 carbon atoms, or OQZ, wherein Q is perfluorinated alkylene group
having 0 to 5 oxygen atoms, the sum of carbon atom and oxygen atom in the
Q is 2 to 10, and Z is COOR, SO.sub.2 F, CN, COF, or OCH.sub.3, wherein R
is alkyl group having 1 to 4 carbon. A photoresist composition includes
the photosensitive polymer and a photoacid generator(PAG).
Ένα φωτοευαίσθητο πολυμερές σώμα παρέχεται που περιλαμβάνει: (α) παράγωγα perfluoro-2,2-dimethy-1,3-dioxol που έχουν την ακόλουθη μονάδα επανάληψης: ## STR1 ## και (β) βινυλίου παράγωγα που έχουν την ακόλουθη μονάδα επανάληψης: ## STR2 ## όπου R.sub.1 είναι χ, CL, ή φ κάθε ένα από R.sub.2 και R.sub.3 είναι χ ή φ το R.sub.4 είναι χ, φ, CF.sub.3, OCF.sub.3, OCF.sub.2 CF.sub.3, OCF.sub.2 CF.sub.2 CF.sub.3, CH.sub.2 C(CF.sub.3).sub.2 OH, φθοριωμένη ομάδα alkyloxy που έχει μια όξινος-ασταθή ομάδα, ομάδα ν- perfluoroalkyl που έχει 1 έως 8 άτομα άνθρακα, OR.sub.F, όπου R.sub.F είναι ομάδα ν- perfluoroalkyl που έχει 1 έως 3 άτομα άνθρακα, ή OQZ, όπου το q είναι perfluorinated alkylene ομάδα που έχει 0 έως 5 άτομα οξυγόνου, το ποσό του ατόμου άνθρακα και το άτομο οξυγόνου στο q είναι 2 έως 10, και το ζ είναι COOR, SO.sub.2 φ, ΣΟ, COF, ή OCH.sub.3, όπου το ρ είναι αλκυλική ομάδα που έχει τον άνθρακα 1 έως 4. Μια photoresist σύνθεση περιλαμβάνει το φωτοευαίσθητο πολυμερές σώμα και μια γεννήτρια photoacid (PAG).
