An antireflection substrate comprising a substrate which is transparent to ultraviolet and vacuum ultraviolet rays in the wavelength region from 155 nm to 200 nm and a mono-, bi- or tri-layer antireflection film formed on at least one side of the substrate, wherein the refractive index and the physical thickness of the antireflection film at the center wavelength .lambda..sub.0 of the wavelength region of ultraviolet or vacuum ultraviolet light which needs antireflection satisfy particular conditions, and an optical component for a semiconductor manufacturing apparatus and a substrate for a low-reflection pellicle which is the ultraviolet and vacuum ultraviolet antireflection substrate

Een antireflection substraat dat uit een substraat bestaat dat aan ultraviolet en vacuüm ultraviolette stralen in het golflengtegebied van 155 NM aan 200 NM en een mono -, bi - of tri-laagantireflection film transparant is vormde zich aan minstens één kant van het substraat, waarin r i en de fysieke dikte van de antireflection film bij de centrumgolflengte lambda..sub.0 van het golflengtegebied van ultraviolet of vacuüm ultraviolet licht dat antireflection vergt voldoe aan bijzondere voorwaarden, en een optische component voor een halfgeleider productieapparaat en een substraat voor een laag-bezinning pellicle die het ultraviolet en het vacuüm ultraviolette antireflection substraat is