An inner surface of the panel is formed to satisfy at least one of the following relationships: ZPH/LPH.ltoreq.0.0050, and ZPV/LPV.ltoreq.0.050 where LPH represents a distance from a center of the effective section to a long axis end of the effective section. LPV represents a distance from the center to a short axis end of the effective section, ZPH represents a fall of the effective section at the long axis end along the tube axis, and ZPV presents a fall of the effective section at the short axis end along the axis of the tube axis. At least one of each long side and each short side of a mask surface is curved such that a central portion thereof projects outwardly, and satisfies at least corresponding one of the following relationships: YML/LML.ltoreq.0.015, and XMS/LMS.ltoreq.0.015 where LML represents a distance from the short axis to each corner of an effective portion of the mask surface, LMS represents a distance from the long axis to each corner of the effective portion, YML represents a fall, along the short axis, between a point of each long side on the short axis and a corner of the long side, and XMS represents a fall, along the long axis, between a point of each short side on the long axis and a corner of the short side.

Eine innere Oberfläche der Verkleidung wird gebildet, um eins mindestens der folgenden Verhältnisse zu erfüllen: ZPH/LPH.ltoreq.0.0050 und ZPV/LPV.ltoreq.0.050, wo LPH einen Abstand von einer Mitte des wirkungsvollen Abschnitts zu einem langen Mittellinie Ende des wirkungsvollen Abschnitts darstellt. LPV stellt einen Abstand von der Mitte zu einem kurzen Mittellinie Ende des wirkungsvollen Abschnitts dar, stellt ZPH einen Fall des wirkungsvollen Abschnitts am langen Mittellinie Ende entlang der Schlauchmittellinie dar, und ZPV stellt einen Fall des wirkungsvollen Abschnitts am kurzen Mittellinie Ende entlang der Mittellinie der Schlauchmittellinie dar. Einem mindestens jeder langen Seite und jeder kurzen Seite einer Schablone Oberfläche wird so gekurvt, daß Projekte eines zentrale Teils davon nach außen und mindestens das Entsprechen der folgenden Verhältnisse erfüllt: YML/LML.ltoreq.0.015 und XMS/LMS.ltoreq.0.015, in dem LML einen Abstand von der kurzen Mittellinie zu jeder Ecke eines wirkungsvollen Teils der Schablone Oberfläche darstellt, LMS stellt einen Abstand von der langen Mittellinie zu jeder Ecke des wirkungsvollen Teils dar, stellt YML einen Fall, entlang die kurze Mittellinie, zwischen einen Punkt jeder langen Seite auf der kurzen Mittellinie und eine Ecke der langen Seite dar, und XMS stellt einen Fall, entlang die lange Mittellinie, zwischen einen Punkt jeder kurzen Seite auf der langen Mittellinie und eine Ecke der kurzen Seite dar.