A gas inlet, which also serves as a counter electrode, is located inside of a vacuum chamber made of an electrically insulating material. A container is mounted on a mandrel mounted on the gas inlet. The chamber is evacuated to a subatmospheric pressure. A process gas is then introduced into the container through the gas inlet. The process gas is ionized by coupling RF power to a main electrode located adjacent an exterior surface of the chamber and to the gas inlet which deposits a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) thin film onto the interior surface of the container.

Ένας αέριο κολπίσκος, που χρησιμεύει επίσης ως ένα αντίθετο ηλεκτρόδιο, βρίσκεται μέσα μιας κενής αίθουσας φιαγμένης από ηλεκτρικά μονώνοντας υλικό. Ένα εμπορευματοκιβώτιο τοποθετείται mandrel που τοποθετείται στον αέριο κολπίσκο. Η αίθουσα εκκενώνεται σε μια subatmospheric πίεση. Μια διαδικασία αέριο εισάγεται έπειτα στο εμπορευματοκιβώτιο μέσω του αέριο κολπίσκου. Η διαδικασία αέριο ιονίζεται με την ένωση της δύναμης RF με ένα κύριο ηλεκτρόδιο που βρίσκεται δίπλα σε μια εξωτερική επιφάνεια της αίθουσας και με τον αέριο κολπίσκο που καταθέτει μια ενισχυμένη πλάσμα χημική λεπτή ταινία απόθεσης ατμού (PECVD) επάνω στην εσωτερική επιφάνεια του εμπορευματοκιβωτίου.