A process for the preparation of mesostructured molecular sieve silicas from inorganic silicon precursors and polyoxyethylene oxide based polymers is described. The silicas are stable upon calcination to 600.degree. to 800.degree. C. The silicas are useful in refining processes.

Un procédé pour la préparation de mesostructured des silices de passoir moléculaire des précurseurs inorganiques de silicium et des polymères basés par oxyde de polyoxyéthylène est décrits. Les silices sont stables lors de la calcination à 600.degree. à 800.degree. C. Les silices sont utiles dans des processus de raffinage.