A method and computer program product is described for optimizing the design of a circuit layout that assigns binary properties to the design elements according to a hierarchy of rules. For example, the design of an alternating phase shifted mask (altPSM) is optimized first according to rules that assign phase shapes that maximize image quality for critical circuit elements, and then further optimized to minimize mask manufacturability problems without significantly increasing the complexity of the design process flow. Further optimization of the design according to additional rules can be performed in a sequentially decreasing priority order. As the priority of rules decrease, some violation of lower priority rules may be acceptable, as long as higher priority rules are not violated.

Un prodotto di programma destinato all'elaboratore e di metodo è descritto per l'ottimizzazione del disegno di una disposizione di circuito che assegna le proprietà binarie agli elementi di disegno secondo una gerarchia delle regole. Per esempio, il disegno di una mascherina sfasamento alternata (altPSM) è ottimizzato in primo luogo secondo le regole che assegnano le figure di fase che elevano la qualità di immagine per gli elementi del circuito critici ed allora ancora ottimizzato per minimizzare i problemi di manufacturability della mascherina senza significativamente aumentare la complessità del flusso di processo di disegno. Ulteriore ottimizzazione del disegno secondo le regole supplementari può essere effettuata in un ordine in sequenza di diminuzione di priorità. Mentre la priorità delle regole diminuisce, una certa violazione delle regole più di scarsa priorità può essere accettabile, lungamente come le regole di netta priorità non sono violate.