A cleaning device with deeply reaching plasma and assisting electrodes has supporting racks, a chamber, a plasma sources, metallic grids. Flat boards to be cleaned such as circuit boards are located in the supporting racks. The supporting racks are disposed in the chamber. The metallic grids are disposed on two sides of the chamber. The plasma source is disposed next to the metallic grids. Electric voltage is applied to the metallic grids such that plasma from the plasma source can be pushed deeply into the supporting racks to evenly and sufficiently clean the circuit boards.

Un dispositif de nettoyage avec atteindre profondément le plasma et aider des électrodes a les supports de support, une chambre, sources d'un plasma, grilles métalliques. Des conseils plats à nettoyer comme des cartes sont situés dans les supports de support. Les supports de support sont disposés dans la chambre. Les grilles métalliques sont disposées de deux côtés de la chambre. La source de plasma est disposée à côté des grilles métalliques. La tension électrique est appliquée aux grilles métalliques tels que le plasma de la source de plasma peut être poussé profondément dans les supports de support à également et suffisamment propre les cartes.