An apparatus for use in processing a workpiece to fabricate a microelectronic component is set forth. The apparatus comprises a process container having a process fluid therein for processing the workpiece and a workpiece holder configured to hold the workpiece. A position sensor is employed to provide position information indicative of the spacing between a surface of the workpiece and a surface of the process fluid. A drive system provides relative movement between the surface of the workpiece and the surface of the process fluid in response to the position information. Preferably, the relative movement provided by the drive system comprises a first motion that causes the surface of the workpiece to contact the surface of the process fluid, and a second motion opposite the direction all of and following the first to generate and maintain a column of process fluid between the surface of the process fluid and the surface of the workpiece. In this manner, the drive system causes the surface of the workpiece to contact the surface of the process fluid to the exclusion of other surfaces of the workpiece thereby limiting processing of the workpiece to only the desired surface. In accordance with one embodiment, the apparatus is configured to electroplate a material onto the surface of the workpiece.

Een apparaat voor gebruik in de verwerking van een werkstuk wordt om een micro-electronische component te vervaardigen uiteengezet. Het apparaat bestaat daarin uit een procescontainer die een procesvloeistof voor de verwerking van het werkstuk en een werkstukhouder die wordt gevormd heeft om het werkstuk te houden. Een positiesensor is aangewend om positieinformatie te verstrekken indicatief van het uit elkaar plaatsen tussen een oppervlakte van het werkstuk en een oppervlakte van de procesvloeistof. Een aandrijvingssysteem verstrekt relatieve beweging tussen de oppervlakte van het werkstuk en de oppervlakte van de procesvloeistof in antwoord op de positieinformatie. Bij voorkeur, wordt verstrekt bestaat de relatieve beweging die door het aandrijvingssysteem uit een eerste motie die de oppervlakte van het werkstuk veroorzaakt om de oppervlakte van de procesvloeistof, en een tweede motie tegenover de elk van richting en na de eerste te contacteren om een kolom van procesvloeistof tussen de oppervlakte van de procesvloeistof en de oppervlakte van het werkstuk te produceren en te handhaven. Op deze wijze, veroorzaakt het aandrijvingssysteem de oppervlakte van het werkstuk om de oppervlakte van de procesvloeistof aan de uitsluiting van andere oppervlakten te contacteren die van het werkstuk daardoor verwerking van het werkstuk beperken tot slechts de gewenste oppervlakte. Overeenkomstig één belichaming, wordt het apparaat gevormd om een materiaal op de oppervlakte van het werkstuk te galvaniseren.

 
Web www.patentalert.com

< Apparatus and method for electrolytically depositing a metal on a workpiece

< Apparatus and method for delivering a treatment liquid and ozone to treat the surface of a workpiece

> Method and apparatus for processing a microelectronic workpiece including an apparatus and method for executing a processing step at an elevated temperature

> Apparatus for processing a microelectronic workpiece including a workpiece cassette inventory assembly

~ 00080