A processor for processing articles, such as semiconductor wafers, in a substantially clean atmosphere is set forth. The processor includes an enclosure defining a substantially enclosed clean processing chamber and at least one processing station disposed in the processing chamber. An interface section is disposed adjacent an interface end of the enclosure. The interface section includes at least one interface port through which a pod containing articles for processing are loaded or unloaded to or from the processor. The interface section is hygienically separated from the processing chamber since the interface section is generally not as clean as the highly hygienic processing chamber. An article extraction mechanism adapted to seal with the pod is employed. The mechanism is disposed to allow extraction of the articles contained within the pod into the processing chamber without exposing the articles to ambient atmospheric conditions in the interface section. The article processor also preferably includes an article insertion mechanism that is adapted to seal with a pod disposed in the interface section. The article insertion mechanism is disposed to allow insertion of the articles into the pod after processing by the at least one processing station. The article insertion mechanism allows the insertion of the articles without exposing the articles to ambient atmospheric conditions in the interface section.

Um processador para processar artigos, tais como wafers de semicondutor, em uma atmosfera substancialmente limpa é determinado. O processador inclui um cerco que define uma câmara processando limpa substancialmente incluida e ao menos uma estação processando dispostas na câmara processando. Uma seção da relação é adjacente disposto um fim da relação do cerco. A seção da relação inclui ao menos um porto da relação através de que um pod que contem artigos para processar é carregado ou descarregado a ou do processador. A seção da relação é separada higiênica da câmara processando desde que a seção da relação não está geralmente tão limpa quanto a câmara processando altamente higiênica. Um mecanismo da extração do artigo adaptado ao selo com o pod é empregado. O mecanismo é disposto permitir a extração dos artigos contidos dentro do pod na câmara processando sem expo os artigos às circunstâncias atmosféricas ambientais na seção da relação. O processador do artigo também inclui preferivelmente um mecanismo da inserção do artigo que seja adaptado ao selo com um pod disposto na seção da relação. O mecanismo da inserção do artigo é disposto permitir a inserção dos artigos no pod após processar pela ao menos uma estação processando. O mecanismo da inserção do artigo permite a inserção dos artigos sem expo os artigos às condições atmosféricas ambientais na seção da relação.

 
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< Process and manufacturing tool architecture for use in the manufacturing of one or more protected metallization structures on a workpiece

< Apparatus for low-temperature annealing of metallization microstructures in the production of a microelectronic device

> In-situ cleaning processes for semiconductor electroplating electrodes

> Microelectronic workpiece support and apparatus using the support

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