An ester compound of the following formula (1) is provided. ##STR1## R.sup.1 is H, methyl or CH.sub.2 CO.sub.2 R.sup.3, R.sup.2 is H, methyl or CO.sub.2 R.sup.3, R.sup.3 is C.sub.1 -C.sub.15 alkyl, k is 0 or 1, Z is a divalent C.sub.2 -C.sub.20 hydrocarbon group which forms a single ring or bridged ring with the carbon atom and which may contain a hetero atom, m is 0 or 1, n is 0, 1, 2 or 3, and 2m+n=2 or 3. A resist composition comprising as the base resin a polymer resulting from the ester compound is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance, and is suited for micropatterning using electron beams or deep-UV.

Μια ένωση εστέρα του ακόλουθου τύπου (1) παρέχεται. ## STR1 ## το R.sup.1 είναι χ, μεθύλιο ή CH.sub.2 CO.sub.2 R.sup.3, R.sup.2 είναι χ, μεθύλιο ή CO.sub.2 R.sup.3, R.sup.3 είναι C.sub.1 - C.sub.15 το αλκύλιο, Κ είναι 0 ή 1, ζ είναι ένα divalent C.sub.2 - ομάδα υδρογονανθράκων C.sub.20 που διαμορφώνει ένα ενιαίο δαχτυλίδι ή το γεφυρωμένο δαχτυλίδι με το άτομο άνθρακα και που μπορεί να περιέχει ένα άτομο hetero, το μ είναι 0 ή 1, ν είναι 0 ..1 ..2 ή 3, και 2m+n=2 ή 3. Αντισταθείτε στη σύνθεση περιλαμβάνοντας δεδομένου ότι η ρητίνη βάσεων που ένα πολυμερές σώμα ως αποτέλεσμα της ένωσης εστέρα είναι ευαίσθητο στην υψηλής ενέργειας ακτινοβολία, έχει την άριστη ευαισθησία, την ανάλυση, και τη χάραξη της αντίστασης, και είναι ταιριαγμένη για οι χρησιμοποιώντας δέσμες ηλεκτρονίων ή βαθύς-UV.