A method for employing a plurality of reusable reticles in an integrated circuit manufacturing process employing lithographic exposure of a semiconductor wafer. Initially there is provided a matrix of a plurality of reticles, each matrix comprising a plurality of tuples of reticles, each reticle tuple comprising one or more reticles. The method then includes defining at least one set of valid groups of reticles in the matrix for use in a desired lithographic exposure process, defining a set of conditions for determining availability of all reticles in the valid groups in the lithographic exposure process, and comparing the availability conditions to the reticles in the set of valid groups and eliminating valid groups which do not meet the availability conditions, leaving non-eliminated valid groups. The method also includes defining a set of conditions for determining priority of all reticles in the non-eliminated valid groups in the lithographic exposure process, comparing the priority conditions to the reticles in the set of valid groups and ranking non-eliminated valid groups according to the priority conditions, and selecting for use in the lithographic exposure process reticles from the non-eliminated valid groups according to ranking by the priority conditions.

Un metodo per impiegare una pluralità di reticoli riutilizzabili in un processo di manufacturing del circuito integrato che impiega esposizione litografica di una cialda a semiconduttore. Inizialmente è fornito una tabella di una pluralità di reticoli, ogni tabella che contiene una pluralità i tuples dei reticoli, ogni tuple del reticolo che contiene uno o più reticoli. Il metodo allora include la definizione almeno dell'un insieme dei gruppi validi dei reticoli nella tabella per uso in un processo litografico voluto di esposizione, definente un insieme dei termini per la determinazione della disponibilità di tutti i reticoli nei gruppi validi nel processo litografico di esposizione e confrontare gli stati di disponibilità ai reticoli nell'insieme dei gruppi validi e l'eliminazione dei gruppi validi che non riempiono gli stati di disponibilità, lasciante i gruppi validi non-eliminati. Il metodo inoltre include la definizione dell'insieme dei termini per la determinazione della priorità di tutti i reticoli nei gruppi validi non-eliminati nel processo litografico di esposizione, confrontare la priorità condiziona ai reticoli nell'insieme dei gruppi validi e dei gruppi validi non-eliminati posto secondo gli stati di priorità e della selezione per l'uso nei reticoli litografici di processo di esposizione dai gruppi validi non-eliminati secondo il posto dagli stati di priorità.