A manufacturing technique for making grating features utilizes the etching
characteristics for photoresist to provide desirable geometric shapes in
close proximity to each other. This results in a grating for optocoupling,
which is manufacturable and provides efficient coupling. A silicon
waveguide is conveniently achieved using a SOI substrate so that the
insulator underlying the silicon provides one material adjoining the
silicon with a lower index of refraction than silicon. The top surface of
the silicon has the desirable geometric shapes that result also in a lower
index of refraction than silicon above the main body of the silicon
substrate.
Eine Produktionstechnik für das Bilden der kratzenden Eigenschaften verwendet die Radierung Eigenschaften für Photoresist, um wünschenswerte geometrische Formen in der nahen Nähe miteinander zur Verfügung zu stellen. Dieses ergibt eine Vergitterung für das Optocoupling, das manufacturable ist und leistungsfähige Koppelung liefert. Ein Silikonwellenleiter wird bequem mit einem SOI Substrat erzielt, damit die Isolierung, die das Silikon zugrundeliegend ist, ein Material versieht, welches das Silikon mit einem niedrigeren Brechungsindex als Silikon angrenzt. Die Oberfläche des Silikons hat die wünschenswerten geometrischen Formen, die auch ein niedrigeres Brechungsindex als Silikon über dem Hauptkörper des Silikonsubstrates ergeben.