A manufacturing technique for making grating features utilizes the etching characteristics for photoresist to provide desirable geometric shapes in close proximity to each other. This results in a grating for optocoupling, which is manufacturable and provides efficient coupling. A silicon waveguide is conveniently achieved using a SOI substrate so that the insulator underlying the silicon provides one material adjoining the silicon with a lower index of refraction than silicon. The top surface of the silicon has the desirable geometric shapes that result also in a lower index of refraction than silicon above the main body of the silicon substrate.

Eine Produktionstechnik für das Bilden der kratzenden Eigenschaften verwendet die Radierung Eigenschaften für Photoresist, um wünschenswerte geometrische Formen in der nahen Nähe miteinander zur Verfügung zu stellen. Dieses ergibt eine Vergitterung für das Optocoupling, das manufacturable ist und leistungsfähige Koppelung liefert. Ein Silikonwellenleiter wird bequem mit einem SOI Substrat erzielt, damit die Isolierung, die das Silikon zugrundeliegend ist, ein Material versieht, welches das Silikon mit einem niedrigeren Brechungsindex als Silikon angrenzt. Die Oberfläche des Silikons hat die wünschenswerten geometrischen Formen, die auch ein niedrigeres Brechungsindex als Silikon über dem Hauptkörper des Silikonsubstrates ergeben.

 
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