The photosensitive polymer includes a first monomer which is norbornene ester having C.sub.1 to C.sub.12 aliphatic alcohol as a substituent, and a second monomer which is maleic anhydride. A chemically amplified photoresist composition, containing the photosensitive polymer, has an improved etching resistance and adhesion to underlying layer materials, and exhibits wettability to developing solutions.

O polímero photosensitive inclui um primeiro monomer que seja ester do norbornene que tem C.sub.1 ao álcool C.sub.12 aliphatic como um substituent, e um segundo monomer que seja anhydride maleic. Uma composição quimicamente amplificada do photoresist, contendo o polímero photosensitive, tem uma resistência e uma adesão gravando melhoradas aos materiais subjacentes da camada, e exibe o wettability às soluções tornando-se.