The present invention is a system for performing coating and developing treatment for a substrate, which comprises a treatment section having a coating treatment unit for forming a coating film on the substrate, a developing treatment unit for developing the substrate, a thermal treatment unit for performing thermal treatment for the substrate, and a first carrier unit for carrying the substrate into/out of these coating treatment unit, developing treatment unit, and thermal treatment unit. The system of the present invention further comprises an interface section having a second carrier unit for carrying the substrate through a route at least between the treatment section and an exposure processing unit provided outside the system for performing exposure processing for the substrate. The system of the present invention still further comprises a pressure reducing and removing unit for removing impurities adhering to the coating film on the substrate by suction in a chamber before the substrate is subjected to the exposure processing. According to the present invention, before exposure processing, impurities at molecular level such as oxygen, ozone, and organic substances and impurities such as particulates which adhere to the coating film of the substrate can be removed, whereby exposure processing is suitably performed, resulting in a rise in yield.

La presente invenzione è un sistema per l'effettuazione del trattamento ricoprente e di sviluppo per un substrato, che contiene una sezione di trattamento che ha un'unità ricoprente di trattamento per formare una pellicola ricoprente sul substrato, un'unità di sviluppo di trattamento per sviluppare il substrato, un'unità termica di trattamento per l'effettuazione del trattamento termico per il substrato e una prima unità dell'elemento portante per trasportare il substrato into/out di questi unità ricoprente di trattamento, unità di sviluppo di trattamento ed unità termica di trattamento. Il sistema di presente invenzione ulteriore contiene una sezione dell'interfaccia che ha una seconda unità dell'elemento portante per trasportare il substrato tramite un itinerario almeno fra la sezione di trattamento e un'unità di elaborazione di esposizione fornite fuori del sistema per realizzare l'esposizione che procede per il substrato. Il sistema di presente invenzione ancora più contiene una pressione che riduce e che rimuove l'unità per la rimozione delle impurità che si aderiscono alla pellicola ricoprente sul substrato dall'aspirazione in un alloggiamento prima che il substrato sia sottoposto all'elaborazione di esposizione. Secondo l'invenzione presente, prima di esposizione che procede, le impurità al livello molecolare quale ossigeno, l'ozono e le sostanze e le impurità organiche quali le particelle che si aderiscono alla pellicola ricoprente del substrato possono essere rimossi, per cui l'elaborazione di esposizione è realizzata adeguatamente, con conseguente aumento nel rendimento.