A high purity cobalt sputter target is disclosed which contains a face
centered cubic (fcc) phase and a hexagonal close packed (hcp) phase,
wherein the value of the ratio of X-ray diffraction peak intensity,
I.sub.fcc (200)/I.sub.hcp (10 1), is smaller than the value of the same
ratio in a high purity cobalt material obtained by cooling fcc cobalt to
room temperature from the high temperature at which it is molten. High
purity cobalt is defined as having an oxygen content of not more than 500
ppm, a Ni content of not more than 200 ppm, contents of Fe, Al and Cr of
not more than 50 ppm each, and Na and K of less than 0.5 ppm. The
disclosed sputter target is manufactured by subjecting the material to
cold-working treatments (less than 4221C). Annealing the material, at a
temperature in the range 300-4221C for several hours, between cold working
treatments significantly increases the amount of cold work which could be
imparted into the material. The high purity cobalt is deformed in such a
way so as to cause the (0002) hcp plane to be tilted between 10-351 from
the target normal. The aforementioned phase proportions and
crystallographic texture significantly improves the sputtering efficiency
and material utilization.
Um cobalt do purity elevado sputter o alvo é divulgado que contem uma fase (fcc) cúbica centrada cara e uma fase embalada próxima sextavada (do hcp), wherein o valor da relação da intensidade do pico do diffraction de raio X, I.sub.fcc (200)/I.sub.hcp (10 1), são menores do que o valor da mesma relação em um material do cobalt do purity elevado obtido refrigerando o cobalt do fcc à temperatura de quarto da alta temperatura em que é derretida. O cobalt do purity elevado é definido como tendo um índice de oxigênio de não mais de 500 ppm, um índice do Ni de não mais de 200 ppm, índices do Fe, al e cr de não mais de 50 ppm cada, e Na e K de menos de 0.5 ppm. Divulgados sputter o alvo são manufaturados sujeitando o material aos tratamentos da trabalho a frio (mais menos do que 4221C). Recozer o material, em uma temperatura na escala 300-4221C por diversas horas, entre tratamentos trabalhando frios aumenta significativamente a quantidade de trabalho frio que poderia ser dada no material. O cobalt do purity elevado é deformado em tal maneira para fazer com que (os 0002) planos do hcp sejam inclinados entre 10-351 do normal do alvo. As proporções acima mencionadas da fase e a textura crystallographic melhoram significativamente a utilização da eficiência e do material sputtering.
