An upcollimator structure 28 for a laser system 10 is provided. The upcollimator structure 28 includes at least one concave lens 40; at least one convex lens 42 spaced from the concave lens; and at least one lens member 48 composed at least in part of piezoelectric material disposed between the lenses. When voltage is applied to the lens member 48, a refractive index of the lens member changes thus changing an upcollimation factor when a light beam is passed through the upcollimator structure. The lens member can be moved with respect to the convex lens and the concave lens thereby changing the upcollimation and focal point of the light beam as the light beam exits the optical.

Una struttura 28 di upcollimator per un sistema 10 del laser è fornita. La struttura 28 di upcollimator include almeno un obiettivo concavo 40; almeno un obiettivo convesso 42 ha distanziato dall'obiettivo concavo; ed almeno un membro 48 dell'obiettivo ha composto almeno in parte di materiale piezoelettrico disposto di fra gli obiettivi. Quando la tensione è applicata al membro 48 dell'obiettivo, un indice di rifrazione del membro dell'obiettivo cambia così cambiare un fattore di upcollimation quando un raggio di luce è passato attraverso la struttura di upcollimator. Il membro dell'obiettivo può essere spostato riguardo all'obiettivo convesso ed all'obiettivo concavo quindi che cambiano il upcollimation ed il punto focale del raggio di luce mentre il raggio di luce rimuove l'ottico.