A narrowly defined range of zinc silicate glass compositions is found to produce High Energy Beam Sensitive-glass (HEBS-glass) that possesses the essential properties of a true gray level mask which is necessary for the fabrication of general three dimensional microstructures with one optical exposure in a conventional photolithographic process. The essential properties are (1) A mask pattern or image is grainiless even when observed under optical microscope at 1000.times. or at higher magnifications. (2) The HEBS-glass is insensitive and/or inert to photons in the spectral ranges employed in photolithographic processes, and is also insensitive and/or inert to visible spectral range of light so that a HEBS-glass mask blank and a HEBS-glass mask are permanently stable under room lighting conditions. (3) The HEBS-glass is sufficiently sensitive to electron beam exposure, so that the cost of making a mask using an e-beam writer is affordable for many applications. (4) the e-beam induced optical density is a unique function of, and is a very reproducible function of electron dosages for one or more combinations of the parameters of an e-beam writer. The parameters of e-beam writers include beam accelerations voltage, beam current, beam spot size and addressing grid size.

Une gamme étroitement définie de compositions de verre de silicate de zinc s'avère pour produire le Sensible-verre de faisceau d'énergie élevée (HEBS-verre) qui possède les propriétés essentielles d'un véritable masque de niveau gris qui est nécessaire pour la fabrication des microstructures tridimensionnelles générales avec une exposition optique dans un processus photolithographic conventionnel. Les propriétés essentielles sont (1) modèle de masque de A ou l'image est grainiless même lorsqu'observé sous le microscope optique à 1000.times. ou à des rapports optiques plus élevés. (2) le HEBS-verre est peu sensible et/ou inerte aux photons dans les gammes spectrales utilisées dans des processus photolithographic, et est également peu sensible et/ou inerte à la gamme spectrale évidente de la lumière de sorte qu'un blanc de masque de HEBS-verre et un masque de HEBS-verre soient de manière permanente des états de dessous stables d'éclairage de pièce. (3) le HEBS-verre est suffisamment sensible à l'exposition de faisceau d'électrons, de sorte que le coût de faire un masque employant un auteur d'e-faisceau soit accessible pour beaucoup d'applications. (4) la densité optique induite parfaisceau est une fonction unique de, et est une fonction très reproductible des dosages d'électron pour une ou plusieurs combinaisons des paramètres d'un auteur d'e-faisceau. Les paramètres des auteurs d'e-faisceau incluent la tension d'accélérations de faisceau, le courant de faisceau, la taille de tache de faisceau et adresser la taille de grille.