A dustproof covering film-attached wafer support comprising a base, a silicone rubber layer substantially uniform in thickness and integrated with the base and a dustproof covering film, with the dustproof covering film is attached to the silicone rubber layer in a state that the peel strength between the dustproof covering film and the silicone rubber layer is from 5 to 500 g/25 mm, thereby enabling the covering film to be peeled apart as the need arises; and a production method for such a wafer support.

Una cubierta a prueba de polvo peli'cula-unio' la ayuda de la oblea que abarcaba una base, un uniforme de goma de la capa del silicón substancialmente en grueso e integró con la base y una película a prueba de polvo de la cubierta, con la película a prueba de polvo de la cubierta se une a la capa de goma del silicón en un estado que la fuerza de la cáscara entre la película a prueba de polvo de la cubierta y la capa de goma del silicón sea a partir 5 a 500 g/25 milímetro, de tal modo permitiendo a la película de la cubierta ser pelado aparte al presentarse la necesidad; y un método de producción para tal ayuda de la oblea.