A method and apparatus for fabricating a metal-insulator-metal capacitor by performing atomic layer deposition (ALD). A fully integrated process flow prevents electrode-dielectric contamination during an essential ex situ bottom electrode patterning step.

Une méthode et un appareil pour fabriquer un condensateur de métal-isolateur-métal en effectuant le dépôt atomique de couche (ALD). Un écoulement de processus entièrement intégré empêche la contamination de électrode-diélectrique pendant une étape modelante ex essentielle d'électrode de sole de situ.